නිෂ්පාදන

ඝන-තරල අතුරුමුහුණත්වලට ප්‍රෝටීන අවශෝෂණය කිරීම බොහෝ විට ද්‍රාව්‍ය සමස්ථයන් සහ විශාල, යටි පෙනෙන සහ දෘශ්‍ය අංශු සෑදීම ප්‍රවර්ධනය කිරීම සඳහා ආනුභවිකව සොයා ගනු ලැබේ, නමුත් මෙම ක්‍රියාවලියේ ප්‍රධාන අදියර බොහෝ විට සෘජුව විමර්ශනය කිරීමට අපහසු වේ.ජල-සිලිකන් ඔක්සයිඩ් (SiOx) අතුරුමුහුණත්වලට අවශෝෂණය කිරීමෙන් මැදිහත් වීම, හයිඩ්‍රේටඩ් වීදුරු මතුපිටට සමානයි, ඇල්ෆා-චයිමොට්‍රිප්සිනොජන් (aCgn) සහ මොනොක්ලෝනල් ප්‍රතිදේහ (IgG1) සඳහා pH සහ අයනික ශක්තියේ ශ්‍රිතයක් ලෙස සංලක්ෂිත විය.ප්‍රවාහ සෛලයක් මගින් SiOx පෘෂ්ඨ පිරිසිදු කිරීම සඳහා අවශෝෂණය කරන ලද ප්‍රෝටීන ස්ථර සඳහා නියුට්‍රෝන පරාවර්තනයට අවසර දී ඇත.මතුපිට මෘදු ලෙස "සේදීම" කිරීමෙන් පසු ද්‍රාවණයෙන් ප්‍රකෘතිමත් වූ සමස්ථයන් නියුට්‍රෝන විසිරීම, අන්වීක්ෂය සහ ප්‍රතිදීප්ත වර්ණාවලීක්ෂය මගින් සංලක්ෂිත වේ.IgG1 අණු මූලික වශයෙන් SiOx මතුපිටට එරෙහිව "පැතලි" නැඹුරු වී ඇති අතර, ප්‍රාථමික ප්‍රෝටීන් ස්ථරය අවම ප්‍රමාණයකට විසර්ජනය වී ඇති අතර, විසරණය වූ උඩ තට්ටුවක් පහසුවෙන් සෝදා හරිනු ලැබේ.aCgn අණු අතුරු මුහුණතෙහි දිගහැරෙන බව පෙනී ගිය විට ඒවා විසර්ජනයට ප්‍රතිරෝධී වූ නමුත් වෙනත් ආකාරයකින් පහසුවෙන් ඉවත් කරනු ලැබේ.ප්‍රබල බන්ධන සිදු වූ අවස්ථා සඳහා, ප්‍රෝටීන් විනාශ කරන ලද්දේ මොනෝමර් සහ කුඩා ප්‍රමාණයේ HMW සමස්ථ (aCgn සඳහා) හෝ උපදක්‍ෂිණ අංශු (IgG1 සඳහා) මිශ්‍රණයකි.අවශෝෂණ වෙනස්කම් සහ/හෝ pH අගය සමඟ දිග හැරීමෙන් පෙන්නුම් කළේ සෑම අවස්ථාවකදීම විද්‍යුත් ස්ථිතික අන්තර්ක්‍රියා වැදගත් වන බවයි.